离子束刻蚀机的应用
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应用***的离子束溅射和离子束刻蚀工艺,将应变电桥直接制作在金属测压膜片上。由于不用传统的胶粘工艺,***改善了应变式传感器的长期稳定性及抗蠕变特性,使产品使用的温度范围大为扩展。由于没有活动部件,抗振动和抗冲的能力很强,可用于恶劣的环境。
离子束加工
离子束加工是在真空条件下,先由电子枪产生电子束,再引入已抽成真空且充满惰性气体之电离室中,使低压惰性气体离子化。由负极引出阳离子又经加速、集束等步骤,获得具有一定速度的离子投射到材料表面,产生溅射效应和注入效应。由于离子带正电荷,其质量比电子大数千、数万倍,所以离子束比电子束具有更大的撞击动能,轰击离子束刻蚀机生产厂家,是靠微观的机械撞击能量来加工的。离子束加工主要特点如下:1.加工的精度非常高。2.污染少。3.加工应力、热变形等较小、加工精度高。4.离子束加工设备费用高、成本贵、加工效率低。
干法刻蚀
干法刻蚀种类很多,包括光挥发、气相腐蚀、等离子体腐蚀等。其优点是:各向异性好,选择比高,可控性、灵活性、重复性好,细线条操作安全,易实现自动化,无化学废液,处理过程未引入污染,洁净度高。缺点是:成本高,设备复杂。干法刻蚀主要形式有纯化学过程(如屏蔽式,下游式,桶式),轰击离子束刻蚀机品牌,纯物理过程(如离子铣),物理化学过程,常用的有反应离子刻蚀RIE,离子束辅助自由基刻蚀ICP等。干法刻蚀方式很多,一般有:溅射与离子束铣蚀, 等离子刻蚀(Plasma Etching),轰击离子束刻蚀机,高压等离子刻蚀,轰击离子束刻蚀机厂家,高密度等离子体(HDP)刻蚀,反应离子刻蚀(RIE)。另外,化学机械抛光CMP,剥离技术等等也可看成是广义刻蚀的一些技术。
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