离子束刻蚀机
具有一定能量的离子束轰击样品表面,把离子束动能传给样品原子,使样品表面的原子挣脱原子间的束缚力而溅射出来,从而实现刻蚀目的。这是纯粹的物理溅射过程。
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反应离子刻蚀的工作原理
通常情况下,反应离子刻蚀机的整个真空壁接地, 作为阳极, 阴极是功率电极, 阴极侧面的接地屏蔽罩可防止功率电极受到溅射。要腐蚀的基片放在功率电极上。腐蚀气体按照一定的工作压力和搭配比例充满整个反应室。对反应腔中的腐蚀气体, 加上大于气体击穿临界值的高频电场, 在强电场作用下, 被高频电场加速的杂散电子与气体分子或原子进行随机碰撞,离子束刻蚀机工作原理, 当电子能量大到一定程度时, 随机碰撞变为非弹性碰撞, 产生二次电子发射, 它们又进一步与气体分子碰撞, 不断激发或电离气体分子。这种激烈碰撞引起电离和复合。当电子的产生和消失过程达到平衡时, 放电能继续不断地维持下去。由非弹性碰撞产生的离子、电子及及游离基(游离态的原子、分子或原子团) 也称为等离子体, 具有很强的化学活性, 可与被刻蚀样品表面的原子起化学反应, 形成挥发性物质, 达到腐蚀样品表层的目的。同时, 由于阴极附近的电场方向垂直于阴极表面, 高能离子在一定的工作压力下, 垂直地射向样品表面,离子束刻蚀机原理, 进行物理轰击, 使得反应离子刻蚀具有很好的各向异性 。
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离子束刻蚀机
离子源的主要参数有:①离子束流强。即能够获得的有用离子束的等效电流强度,用电流单位A或mA表示。②有用离子***比。即有用离子束占总离子束的***比。一般来说,离子源给出的总离子束包括单电荷离子、多电荷离子、各种分子离子和杂质元素离子等的离子束。③能散度。由于离子的热运动和引出地点的不同,使得离子源给出的离子束的能量对要求的单一能量有一定离散,一般希望能散度尽量小,在高精度的离子束应用中尤其是这样。④束的聚焦性能。以离子束的截面和张角表示。聚焦不好的离子束在传输过程中会使离子大量丢失。获得良好聚焦特性的离子束的终障碍是束中离子之间的静电排斥力,为了克服这一障碍,应尽早使离子获得较高能量。⑤离子源的效率。以离子束形式引出的工作物质占总消耗的工作物质的比例。⑥工作寿命。离子源一次安装以后使用的时间。