离子束刻蚀
离子束刻蚀技术是近年来发展起来的一种微细加工技术，它利用反应离子束轰击团体表面时发生的溅射效应和化学反应剥离加工工作上的几何图形。具有极高的分辨率，能够控制槽深和槽壁角度，表面应力小。反应离子束刻蚀技术已有效地用于研究和制造大规模和超大规模集成电路，聚焦离子束刻蚀机供应商，声表面波器件，磁泡存储器，微波器件，集成光路，超导器件，闪烁光栅等。
离子束刻蚀
离子束刻蚀以离子束为刻蚀手段达到刻蚀目的的技术，聚焦离子束刻蚀机哪家好，其分辨率限制于粒子进入基底以及离子能量耗尽过程的路径范围。离子束较小直径约10nm，离子束刻蚀的结构较小可能不会小于10nm。目前聚焦离子束刻蚀的束斑可达100nm以下，较以较快的直写速度进行小于50nm的刻蚀，故而聚焦离子束刻蚀是纳米加工的一种理想方法。此外聚焦离子束技术的另一优点是在计算机控制下的无掩膜注入，甚至无显影刻蚀，直接制造各种纳米器件结构。但是，在离子束加工过程中，损伤问题比较突出，且离子束加工精度还不容易控制，控制精度也不够高。
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反应离子刻蚀的原理
在反应离子刻蚀中，气体放电产生的等离子体中有大量化学活性的气体离子，这些离子与材料表面相互作用导致表面原子产生化学反应，生成可挥发产物。这些挥发产物随真空抽气系统被排走。随着材料表层的“反应-剥离-排放”的周期循环，聚焦离子束刻蚀机报价，材料被逐层刻蚀到特定深度。除了表面化学反应外，带能量的离子轰击材料表面也会使表面原子溅射，聚焦离子束刻蚀机，产生一定的刻蚀作用。所以，反应离子刻蚀包括物理和化学刻蚀两者的结合。
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