【磁控溅射镀膜设备】***景怎样
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那麼磁控溅射镀膜设备可以运用于哪一方面呢?在硬塑镀层中的运用:例如切削刀具、模具和耐磨损抗腐蚀等零配件。在安全防护镀层中的运用:飞机发动机的叶子、小车厚钢板、散热器等。在光学薄膜行业中的运用:增透膜、高原反应膜、截至滤光片、防伪标识膜等。在建筑玻璃层面的运用:太阳操纵膜、低辐射夹层玻璃、防雾防露和自清洁玻璃等。在太阳能利用应用领域:太阳能发电集热器、太阳电池等。在集成电路芯片生产制造中的运用:塑料薄膜变阻器、薄膜电容器、塑料薄膜温度感应器等。在信息内容显示信息应用领域:液晶显示屏、低温等离子屏等。在信息内容储存应用领域:磁信息内容储存、磁光信息内容储存等。在装饰设计装饰品上的运用:手机套、表带、眼镜框、五金配件、装饰品等镀一层薄薄的膜。
磁控溅射
(1)各种功能性薄膜:如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如,低温沉积氮化硅减反射膜,以提高太阳能电池的光电转换效率。
(2)装饰领域的应用,如各种全反射膜及半透明膜等,如手机外壳,鼠标等。
(3) 在微电子领域作为一种非热式镀膜技术,主要应用在化学气相沉积(CVD)或金属有机
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溅射镀膜
溅射镀膜就是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面,使被轰击出的粒子沉积在基片上的技术。通常,利用低压惰性气体辉光放电来产生入射离子。阴极靶由镀膜材料制成,基片作为阳极,真空室中通入0.1-10Pa的ya气或其它惰性气体,在阴极(靶)1-3KV直流负高压或13.56MHz的射频电压作用下产生辉光放电。电离出的ya离子轰击靶表面,射频磁控溅射,使得靶原子溅出并沉积在基片上,形成薄膜。溅射方法很多,主要有二级溅射、三级或四级溅射、磁控溅射、对靶溅射、射频溅射、偏压溅射、非对称交流射频溅射、离子束溅射以及反应溅射等。